2022 Development of model predictive control of fluorine density in SF6/O2/Ar etch plasma by oxygen flow rate 본문 Author 김곤호 Journal Current Applied Physics Vol./ Page Volume 36 Year 2022 DOI professor 수정 삭제 검색 목록 이전글Plasma information-based virtual metrology (PI-VM) and mass production process control 24.07.11 다음글이방성을 고려한 4차원 탄성파 모니터링 자료의 구조보정 기술개발 24.07.11