Development of Si Etch Profile Virtual Metrology using Plasma Information(PI-VM) in SF6/O2/Ar Capacitively Coupled Plasma 본문 발명가 권지원, 박지훈, 이하늘 등록/출원일 20211104 구분 일본 AEC/APC Symposium Asia 2021 목록 이전글비정질 탄소막(ACL) 하드 마스크 넥킹 위치 가상 예측 모델 (PI-VM_neck) 개발 22.04.22 다음글주요 OECD 국가 간 기술개발의 재생에너지 보급 효과 분석 22.04.22