VHF-CCP 설비에서 Ar/SF6 플라즈마 분포가 Si 식각 균일도에 미치는 영향 분석 본문 발명가 이인규, 이하늘, 손성현 등록/출원일 20211118 구분 대한민국 2021년 반도체디스플레이기술학회 추계학술대회 목록 이전글Development of Non-invasive Plasma Density Uniformity Monitoring Method in Capacitively Coupled Plasma 22.04.22 다음글비정질 탄소막(ACL) 하드 마스크 넥킹 위치 가상 예측 모델 (PI-VM_neck) 개발 22.04.22