Development of Non-invasive Plasma Density Uniformity Monitoring Method in Capacitively Coupled Plasma 본문 발명가 손성현 등록/출원일 20211124 구분 대한민국 43rd International Symposium on Dry Process 목록 이전글Investigation of ion collision effect on electrostatic sheath formation 22.04.22 다음글VHF-CCP 설비에서 Ar/SF6 플라즈마 분포가 Si 식각 균일도에 미치는 영향 분석 22.04.22