VHF-CCP 설비에서 Ar/SF6 플라즈마 분포가 Si 식각 균일도에 미치는 영향 분석 본문 발명가 손성현, 이하늘, 이인규 등록/출원일 20220216 구분 대한민국 제62회 한국진공학회 동계정기학술대회 목록 이전글Mesh-type Reference Computational Phantoms(MRCPs)를 활용한 지층 검층 존데 사용 작업자의 외부 피폭 선량 계산 및 상호 비교 22.04.22 다음글PI-VM 기반 공정결과 경시변화 제어기 개발 22.04.22