반도체 식각 공정용 플라즈마 정보 인자 활용 기술 소개 본문 발명가 권지원, 이명건, 박태준, 배남재, 이하늘, 박지훈, 이인규, 손성현 등록/출원일 20210702 구분 대한민국 2021 KAPRA & KPS/DPP Conference 목록 이전글Development of Virtual Metrology Using Plasma Information Variables to Predict Plasma Density Distribution in Capacitively Coupled Argon Plasma 22.04.22 다음글장비 플라즈마 데이터 기반 지능형 제어 시스템 개발 22.04.22