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특허 실적

Development of Si Etch Profile Virtual Metrology using Plasma Information(PI-VM) in SF6/O2/Ar Capacitively Coupled Plasma

본문

발명가
권지원, 박지훈, 이하늘
등록/출원일
20210117
구분
대한민국
The 8th International Conference on Microelectronics and Plasma Technology and The 9th International Symposium on Functional Materials